Шта је зонски фузионисана силицијумска монокристална плочица?

Монокристал силицијум фузионисан у зонама ултра високог отпора (ФЗ-Силицон)
Силицијум монокристал са ниским садржајем нечистоћа, малом густином дефеката и савршеном структуром решетке извучене процесом топљења у зони, нема нечистоћа у процесу раста кристала, а његова отпорност је обично изнад 1000Ω?цм, углавном се користи за производњу уређаја са високим притиском и оптоелектронских уређаја.
Спојени силицијум монокристал у зони неутронског зрачења (НТДФЗ-Силицон)
Зонски растопљени монокристали силицијума могу добити монокристале силицијума са високом уједначеношћу отпорности кроз неутронско зрачење, што осигурава принос и конзистентност производње уређаја. Углавном се користи у производњи силицијумских исправљача (СР), тиристора (СЦР), џиновских транзистора (ГТР), тиристора (ГРО), статичких индукционих тиристора (СИТХ), биполарних транзистора са изолованим вратима (ИГБТ), ултрависоконапонских диода (ПИН ), Паметни енергетски уређаји (СМАРТ ПОВЕР), уређаји са интегрисаним напајањем (ПОВЕР ИЦ) итд., главни су функционални материјали различитих фреквентних претварача, исправљача, управљачких уређаја велике снаге и нових енергетских електронских уређаја, као и разних детектора, сензора, оптоелектронских уређаја и Главних функционалних материјала за специјалне енергетске уређаје итд.
Монокристал силицијума допираног гасном фазом (ГДФЗ-Силицон)
Користећи механизам дифузије нечистоћа, гасовите нечистоће се додају у процесу извлачења монокристала силицијума поступком зонског топљења, чиме се суштински решава проблем тешког допинга у процесу зонског топљења, и може се добити Н-тип или П-тип, опсег отпорности 0.001- 300Ω.цм, монокристал силикона допираног гасом са униформношћу отпорности еквивалентном оној неутронског зрачења, његова отпорност је погодна за израду различитих полупроводничких енергетских уређаја, биполарних транзистора са изолованим капима (ИГБТ), високоефикасне соларне ћелије итд.
Монокристал фузионисаног силицијума у ​​Зохралском (ЦФЗ-Силицон)
Силицијумски монокристал је извучен комбинацијом два процеса Чохралског и зонског топљења, а квалитет производа је између Цзоцхралског и зонског топљења монокристала. Могу се допирати специјални елементи као што су галијум (Га), германијум (Ге) итд. Нова генерација ЦФЗ соларних силицијумских плочица припремљених методом топљења зоне Чохралског далеко је супериорнија од свих врста силицијумских плочица које се тренутно користе у глобалној фотонапонској индустрији, а ефикасност конверзије соларних ћелија је чак 24-26%. Производи се углавном користе у високоефикасним соларним ћелијама направљеним од посебних структура, позадинских контаката, ХИТ-а и других специјалних процеса, и шире се користе у многим производима и пољима као што су ЛЕД диоде, уређаји за напајање, аутомобили и сателити.